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Comparison of MLD-processes with aromatic and linear organic precursor investigated by in situ QCM and in vacuo XPS
Typ der Veröffentlichung
Konferenzbeitrag
Veröffentlicht in
16th AVS conference on Atomic Layer Deposition, Dublin, Ireland
Schlagwörter
MLD, QCM, XPS, in-situ, film growth
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2016
Referiert
Nein
Open Access
Nein
Zugeordnete Forschungsschwerpunkte
- * Atomic Layer Deposition (ALD)
Berichtsjahr
2016
Export
Kategorien
Journal | Konferenzen | Bücher | Patente