Publikationen der Professur für Halbleitertechnik
Effect of wet chemical substrate pretreatment on the growth behavior of Ta(N) films deposited by thermal ALD
Typ der Veröffentlichung
Zeitschriftenaufsatz
Veröffentlicht in
Microelectronic Engineering
Schlagwörter
-
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2008
Band/Vol.
85
Seiten
2064-2067
Referiert
Ja
Open Access
Nein
Url/Urn/Doi
http://
Zugeordnete Forschungsschwerpunkte
- * Atomic Layer Deposition (ALD)
Zugeordnete Forschungsprojekte
- Einsatz der Atomlagenabscheidung in der Nanotechnologie von Metallschichten
Berichtsjahr
2008
Export
Kategorien
Journal | Konferenzen | Bücher | Patente