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Monitoring atomic layer deposition processes in situ and in real-time by spectroscopic ellipsometry
Typ der Veröffentlichung
Konferenzbeitrag
Veröffentlicht in
IEEE 2011 Semiconductor Conference Dresden : September 27 to 28, 2011 - Dresden, Germany. Dresden, 2011
Schlagwörter
-
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2011
Referiert
Ja
Open Access
Nein
ISBN
978-1-4577-0429-1
Berichtsjahr
2011
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