Publications

Wojcik, H. ; Kaltofen, R. ; Merkel, U. ; Krien, C. ; Strehle, S. ; Gluch, J. ; Knaut, M. ; Wenzel, C. ; Preusse, A. ; Bartha, J.W. ; Geidel, M. ; Adolphi, B. ; Neumann, V. ; Liske, R. ; Munnik, F.
Electrical Evaluation of Ru–W(-N), Ru–Ta(-N) and Ru–Mn films as Cu diffusion barriers
Typ der Veröffentlichung
E-Publishing Aufsatz
Veröffentlicht in
Microelectronic Engineering, Available online 27 May 2011
Schlagwörter
-
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2011
Referiert
Ja
Open Access
Nein
ISSN
0167-9317
Url/Urn/Doi
10.1016/j.mee.2011.03.165, http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0167931711004837
Berichtsjahr
2011
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Martin Knaut
Last modified: Oct 05, 2022