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Densification of Low-Temperature ALD Aluminum Oxide Thin Films by in-situ Flash Annealing
Typ der Veröffentlichung
Konferenzbeitrag
Veröffentlicht in
Proceedings of AVS 12th International Conference on Atomic Layer Deposition, June 17 – 20, 2012, Dresden, Germany
Schlagwörter
Atomic Layer Deposition, Flash Annealing
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2012
Referiert
Ja
Open Access
Nein
Zugeordnete Forschungsschwerpunkte
- * Atomic Layer Deposition (ALD)
Berichtsjahr
2012
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