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Opportunities and challenges of ellipsometry for process monitoring in atomic layer deposition
Typ der Veröffentlichung
Konferenzbeitrag
Veröffentlicht in
7th Workshop Ellipsometry : March 05-07, 2012 Leipzig, Germany. Leipzig, 2012
Schlagwörter
-
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2012
Band/Vol.
Vortrag und Poster
Referiert
Nein
Open Access
Nein
Zugeordnete Forschungsschwerpunkte
- * Atomic Layer Deposition (ALD)
Berichtsjahr
2012
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Journals | Conferencens | Books | Patents