Publications

Strobel, C. ; Merkel, U. ; Leszczynska, B. ; Leszczynski, S. ; Kuske, J. ; Albert, M. ; Bartha, J.W.

Very high deposition rate µc-Si:H absorber layer deposition using a plasma excitation frequency of 140 MHz in combination with high process pressures

Typ der Veröffentlichung

Konferenzbeitrag

Veröffentlicht in

Proceedings of 28th European Photovoltaic Solar Energy Conference and Exhibition, Paris, Frankreich, 30.09.-04.10.2013

Schlagwörter

Jahrgang/Erscheinungsjahr

2013

Seiten

2573-2579

Referiert

Nein

Open Access

Nein

Berichtsjahr

2013

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