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In-situ real-time ellipsometric investigations during the atomic layer deposition of ruthenium: A process development from [(ethylcyclopentadienyl)(pyrrolyl)ruthenium] and molecular oxygen
Typ der Veröffentlichung
Zeitschriftenaufsatz
Veröffentlicht in
Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 30 (2012), 01A151-01A151-9
Schlagwörter
ALD, Ru, spectroscopic ellipsometry, process development, in-situ analytics
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2012
Referiert
Ja
Open Access
Nein
Url/Urn/Doi
Zugeordnete Forschungsschwerpunkte
- * Atomic Layer Deposition (ALD)
Berichtsjahr
2012
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