Published Journals
Remote plasma etching of titanium nitride using NF3/argon and chlorine mixtures for chamber clean applications
Typ der Veröffentlichung
Zeitschriftenaufsatz
Veröffentlicht in
Microelectronic Engineering
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2007
Band/Vol.
84
Seiten
37-41
Referiert
Nein
Url/Urn/Doi
http://
Berichtsjahr
2007
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