Veröffentlichte Konferenzbeiträge 2008 11 bis 18 von 18 EinträgenSchumacher, H.; Estel, K.; Künzelmann, U.; Bartha, J.W.: A novel infrared method for measuring material removal through the silicon wafer. In: CMP-Nutzertreffen, Itzehoe, 11.04.2008 (2008)Strehle, S.; Schmidt, D.; Gutsch, S.; Knaut, M.; Albert, M.; Bartha, J.W.: In situ XPS investigation about the growth of the first atomic layer of Ta(N) films deposited by thermal TBTDET ALD. In: Tagungsbandbeitrag und Poster auf dem MRS Fall Meeting 2008, Boston, MA USA (2008)Rößler, T.; Gluch, J.; Knaut, M.; Albert, M.; Schröder, U.; Teichert, S.; Bartha, J.W.: Characterization of ALD Hf-Y-O. In: ALD conference, 2008, Brügge (2008)Richter, K.; Viehweger, K.; He, J.; Bartha, J.W.: Creation of Vias with Optimized Profile for 3-D Through Silicon Interconnects (TSV). In: Posterbeitrag, 11th Int. Conf. on PSE 2008, 15.-19.9.2008, Garmisch-Partenkirchen Proceedings PSE 2008 (2008)Albert, M.; Strobel, C.; Kuske, J.; Bartha, J.W.: High rate deposition of amorphous silicon thin film solar cells (120nm/min) with a VHF-PECVD inline deposition system. In: 23rd European Photovoltaic Solar Energy Conference, 1.-5. Sept. 2008, Valencia, Spain (2008)Albert, M.; Strehle, S.; Schmidt, D.; Knaut, M.; Hossbach, C.; Rößler, T.; Bartha, J.W.; Gluch, J.; Menzel, S.; Schröder, U.; Hintze, B.: Metal and Insulator layers for DRAM applications. In: GerALD2008, Sept. 22-23, Halle (2008)Schmidt, D.; Knaut, M.; Albert, M.; Hintze, B.; Bartha, J.W.: TAPEDIS - a liquid halide ALD Precursor for depositing Ta-N bases thin films. In: Agent. Proc. AVS Conf. Bruges (B) avail, online (2008)Schmidt, D.; Hossbach, C.; Menzel, S.; Thomas, J.; Teichert, S.; Hintze, B.; Wilde, L.; Albert, M.; Bartha, J.W.: Atomic Layer Deposition of Tantalum Nitride Based Thin Films. In: Agent. Proc. MAM Conf., Dresden (D) avail, online (2008)Zurück 1 2 Diese Informationen werden vom Vorgängersystem FIS bereitgestellt.