Halbleitertechnologie/Prozessintegration
Prof. Dr.rer.nat. J. W. Bartha
Modul Mikrosystemtechnik und Halbleitertechnologie (ET-121201)
Achtung: Ab Woche 14 werden Video-Stream unterstützte virtuelle Vorlesungen im Lerngruppenordner https://bildungsportal.sachsen.de/opal/auth/RepositoryEntry/17035362304/BusinessGroup/34153922571/menu/MENU_FOLDER verfügbar sein!
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- zeitlicher Ablauf V/Ü/P: 2/0/1
- Zeit und Ort:
- Vorlesung: Dienstag, 5. DS, n.n. Video Stream unterstützte Vorlesung!
- Praktikum: Reinraumlabor N.V.
- Beginn: 05.04.2022
- OPAL-Link: https://bildungsportal.sachsen.de/opal/auth/RepositoryEntry/17035362304/CourseNode/97454169819428?28
Inhalt der Vorlesung
Die Prozessintegration, d. h. die sinnvolle Zusammenstellung der Einzelprozessschritte, um einen integrierten Schaltkreis zu generieren, steht im Mittelpunkt dieser Lehrveranstaltung. Ausgehend vom MOS-Kondensator werden die jeweils notwendigen Prozessfolgen in einer Art technologie-chronologischen Reihenfolge erarbeitet.
Die komplexen Zusammenhänge bei den unterschiedlichen Technologien zur Erzeugung von S-RAM und Logik Schaltkreisen in N-MOS und C-MOS Technik sollen erfasst werden. Der Zusammenhang zwischen der physikalischen Funktion des Bauteils und der Methodik der Herstellung wird anhand der modernen selbstjustierenden Prozesse besonders deutlich.
Praktikumsversuche
Opal: https://bildungsportal.sachsen.de/opal/auth/RepositoryEntry/5690753028/CourseNode/101358303504194?3
Innerhalb des Praktikums werden die Prozesse zur Erzeugung einer zwei Ebenen Verdrahtung durchgeführt. Hierzu gehören folgende Technologien:
- PECVD- Schichtabscheidung
- RIE-Trockenstrukturierung
- PVD-Beschichtung
- Lithographie
- Chemische und galvanische Metallabscheidung
Achtung: Die Organisation des Praktikums erfolgt in Gruppen, Sie erhalten dazu noch weitere Instruktionen!
Auch für Promotionsstudenten Halbleitertechnik!