1999
1993
-
A Low-temperature Process for Device-quality Si/sio2 Interfaces on Si(111)YASUDA, T., LEE, D., BJORKMAN, C., MA, Y., LUCOVSKY, G., EMMERICHS, U., MEYER, C. & 2 weitere,
1993,
Materials Research Society Symposium Proceedings.
Band 315.
S. 375-380,
6 S.Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Buch/Konferenzbericht/Sammelband/Gutachten > Beitrag in Konferenzband