1991-1995
INTEGRATION OF WET-CHEMICAL PROCESSING WITH LOW-TEMPERATURE PLASMA-ASSISTED PROCESSES FOR THE FORMATION OF DEVICE-QUALITY SI/SIO2 INTERFACES ON SI(111) SURFACES
Typ der Veröffentlichung
Zeitschriftenaufsatz
Veröffentlicht in
MICROELECTRONIC ENGINEERING
Jahrgang/Erscheinungsjahr
1994
Band/Vol.
25
Heftnummer/Issue
2-4
Seiten
217-222
Referiert
Nein
ISSN
0167-9317
Url/Urn/Doi
Berichtsjahr
1994
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