Publications 2008

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Albert, M.; Strobel, C.; Kuske, J.; Bartha, J.W.: High rate deposition of amorphous silicon thin film solar cells (120nm/min) with a VHF-PECVD inline deposition system. In: 23rd European Photovoltaic Solar Energy Conference, 1.-5. Sept. 2008, Valencia, Spain (2008)

Albert, M.; Strehle, S.; Schmidt, D.; Knaut, M.; Hossbach, C.; Rößler, T.; Bartha, J.W.; Gluch, J.; Menzel, S.; Schröder, U.; Hintze, B.: Metal and Insulator layers for DRAM applications. In: GerALD2008, Sept. 22-23, Halle (2008)

Albert, M.; Bartha, J.W.: Atomlagenabscheidung als Werkzeug für die Nanotechnologie. In: Vakuum in der Forschung und Praxis 20(2008)1 (2008), S. 7–10

Landgraf, R.; Naumann, A.; Kirchner, R.; Fischer, W.-J.: Photonic Biosensing based on Microring-Resonators. In: Max Bergmann Symposium 2008 (2008)

Kirchner, R.; Adolphi, B.; Richter, K.; Fischer, W.-J.: Reduced PDMS swelling in toluene and acrylates by C4F8 plasma fluorination. In: Max Bergmann Symposium 2008 (2008)

Schmidt, D.; Knaut, M.; Albert, M.; Hintze, B.; Bartha, J.W.: TAPEDIS - a liquid halide ALD Precursor for depositing Ta-N bases thin films. In: Agent. Proc. AVS Conf. Bruges (B) avail, online (2008)

Schmidt, D.; Hossbach, C.; Menzel, S.; Thomas, J.; Teichert, S.; Hintze, B.; Wilde, L.; Albert, M.; Bartha, J.W.: Atomic Layer Deposition of Tantalum Nitride Based Thin Films. In: Agent. Proc. MAM Conf., Dresden (D) avail, online (2008)

Schmidt, D.; Strehle, S.; Albert, M.; Hentsch, W.; Bartha, J.W.: Top Injection Reactor Tool with in situ Spectroscopic Ellipsometry for growth and characterization of ALD thin films. In: Microelectronic Engineering 85 (2008), S. 527–533

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Dr. Steffen Strehle
Last modified: Sep 14, 2016