Einflüsse der Nanostrukturie­rung auf die Qualität von Plasmonenreso­nanzen

Welche Herstellungsfaktoren beeinflussen die erreichbare spektrale Resonanzlinienbreite in bestimmten plasmonischen Strukturen am meisten? Sind es Defekte, Variationen der geometrischen Abmessungen oder ist es die Rauheit der Strukturen? Wie können diese Faktoren im Voraus simuliert werden, um einen einfacheren und zeiteffizienteren Strukturentwurf zu ermöglichen? Yu et al. (DFG Gruppe Mesoskopische 3D System) liefert anhand eines ausgewählten praktischen Beispiels detaillierte Ergebnisse zu den einzelnen Einflüssen und ermöglicht damit eine verbesserte Priorisierung in der Reduktion von Fehlerquellen im Fertigungsprozess. Das in ACS Applied Materials & Interfaces veröffentlichte Papier ist eine erfolgreiche interdisziplinäre Zusammenarbeit des Instituts für Halbleiter und Mikrosysteme mit seinen Lehrstühlen für Nanoelektronik (Prof. Mikolajick) und Mikrosysteme (Prof. Richter) sowie des Leibniz-Instituts für Polymerforschung Dresden (Prof. Fery, Institut für Physikalische Chemie und Polymerphysik). Publication