Veröffentlichte Journale 141 bis 150 von 252 EinträgenLotin, A.A.; Novodvorsky, O.A.; Khaydukov, E.V.; Glebov, V.N.; Rocheva, V.V.; Khramova, O.D.; Panchenko, V.Ya.; Wenzel, C.; Trumpaicka, N.; Chtcherbachev, K.D.: Epitaxial growth and properties of MgxZn1-xO films produced by pulsed laser deposition. In: Semiconductors 44 (2010), Nr. 2, S. 246–250Лотин, A.A.; Новодворский, O.A.; Хайдуков, E.B.; Рочева, B.B.; Храмова, О.Д.; Панченко, В.Я.; Венцель, K.; Трумпайска, H.; Щербачев, К.Д.: Эпитаксиальный рост и свойства пленок MgxZn1-xO, получаемых методом лазерно-плазменного осаждения. In: Физика и Техника Полупроводников 44 (2010), Nr. 2, S. 260–264Graham, A.P.; Richter, K.; Jay, T.; Weber, W.; Knebel, S.; Schröder, U.; Mikolajick, T.: An investigation of the electrical properties of metal-insulator-silicon capacitors with pyrolytic carbon electrodes. In: Journal of Applied Physics 108, Issue 10, 104508 (2010) (2010)Seidl, K.; Knobbe, J.; Schneider, D.; Lakner, H.: Distortion correction of all-reflective unobscured optical-power zoom objective. In: Appl. Optics 49 (2010), Nr. 14, S. 2712–2719Gil, T.; May, C.; Scholz, S.; Franke, S.; Törker, M.; Lakner, H.; Leo, K.; Keller, S.: Origin of damages in OLED from Al top contact deposition using magnetron sputtering. In: Organic Electronics 11 (2010), S. 322–331Strehle, S.; Menzel, S.; Bartha, J.W.; Wetzig, K.: Electroplating of Cu(Ag) thin films for interconnect applications. In: Microelectronic Engineering 87 (2010), S. 180–186Rose, M.; Niinistö, J.; Endler, I.; Bartha, J.W.; Kücher, P.; Ritala, M.: In Situ Reaction Mechanism Studies on Ozone-Based Atomic Layer Deposition of Al2O3 and HfO2. In: Applied Materials & Interfaces 256 (2010), Nr. 2, S. 347–350Rose, M.; Bartha, J.W.; Endler, I.: Temperature dependence of the sticking coefficient in atomic layer deposition. In: Applied Surface Science 256 (2010), S. 3778–3782Neuner, J.; Zienert, I.; Peeva, A.; Preusse, A.; Kücher, P.; Bartha, J.W.: Microstructure in copper interconnects - Influence of plating additive concentration. In: Microelectronic Engineering 87 (2010), S. 254–257Ostermay, I.; Kammler, T.; Bartha, J.W.; Kücher, P.: Enhancing epitaxial SixC1_x deposition by adding Ge. In: Thin Solid Films 518 (2010), S. 2834–2838Zurück 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 WeiterDiese Informationen werden vom Vorgängersystem FIS bereitgestellt. Journal Archiv: 2015 | 2014 | 2013 | 2012 | 2011 | 2010 | 2009 | 2008 | 2007 | 2006 | 2005 | 2004