Published Journals 221 bis 230 von 252 EinträgenGuenther, M.; Sorber, J.; Gerlach, G.; Suchaneck, G.; Thong, T.Q.; Arndt, K.-F.; Richter, A.: Piezoresistive Chemosensoren auf der Basis von Hydrogelen. In: Technisches Messen 72 (2005) (2005), S. 93–102Dehm, J.; Marschner, U.; Jettkant, B.; Fischer, W.-J.; Clasbrummel, B.: Messtechnik in der Medizin. In: Sensorik aktuell, Ausgabe II/2005, AMA Fachverband für Sensorik e.V. (2005)Reitz, D.; Heuer, H.; Baunack, S.; Hübner, R.; Hoffmann, V.; Menzel, S.; Wenzel, C.; Wetzig, K.: Investigation of a Ta–Si–O/Ta–Si–N bilayer system for embedded SAW finger structures. In: Microelectronic Engineering 82 (2005) (2005), S. 301–306Hübner, R.; Reiche, R.; Hecker, M.; Mattern, N.; Hoffmann, V.; Wetzig, K.; Heuer, H.; Wenzel, C.; Engelmann, H.-J.: Void formation in the Cu layer during thermal treatment of SiNx/Cu/Ta73Si27/SiO2/Si systems. In: Cryst. Res. Technol. 40, No. 1/2 (2005), S. 135–142Schenk, H.; Wolter, A.; Dauderstädt, U.; Gehner, A.; Lakner, H.: Micro-opto-electro-mechanical systems technology and its impact on photonic applications. In: J. Microlith., Microfab., Microsyst. 4 (4) (2005), S. 1–11Hübner, R.; Hecker, M.; Mattern, N.; Hoffmann, V.; Wetzig, K.; Heuer, H.; Wenzel, C.; Engelmann, H.-J.; Gehre, D.; Zschech, E.: Effect of nitrogen content on the degradation mechanisms of thin Ta–Si–N diffusion barriers for Cu metallization. In: Thin Solid Films 497 (2006) in press (2005)Bartha, J. W.; Wenzel, C.: Ultradünne funktionale Schichten für die Mikroelektronik und andere Anwendungen. In: Dresdner Transferbrief “Nanotechnologie” 2/05 (2005), S. 8Zahn, W.; Hildebrand, D.; Menzel, S.; Oswald, S.; Heuer, H.: Characterisation of thin Ta-Si-Nx layers of different nitrogen content using XPS, UPS and STM. In: Applied Surface Science 252 (2005) (2005), S. 89–93Heuer, H.; Wenzel, C.; Reitz, D.; Herrmann, D.: Schutzschichten zur Verkapselung funktioneller Bauelemente. In: Dresdner Transferbrief „ Energietechnik“ 1.05 (2005), S. 4Novodvorski, O. A.; Chramova, O. D.; Wenzel, C.; Bartha, J. W.: Razmernye effekty statitsheskoi provodimosti v tonkych plyonkach tantala. In: Shurnal Technitsheskoi Fiziki Nr. 6 (2005) (2005), S. 42–45Zurück 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 WeiterDiese Informationen werden vom Vorgängersystem FIS bereitgestellt. Archive: 2015 | 2014 | 2013 | 2012 | 2011 | 2010 | 2009 | 2008 | 2007 | 2006 | 2005 | 2004