Konferenzen

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U., Marschner; W.-J., Fischer: Indirect Measurement of the Position of a Bar Magnet using a Hall Sensor Array. In: Proc. 10th Joint MMM/Intermag. Conf., Baltimore (US) (2007)

H., Grätz; A., Heinig; F., Deicke; W.-J., Fischer: ST1- ein freiprogrammierbarer Schaltkreis für 125 kHz Transponderlösungen. In: Tag,-bd. Mikrosystemtechnik-Kongr., Dresden (2007), S. 1099–1103

S., Friedrich; G., Pfeifer: Einflüsse auf die Laufzeitbestimmung bei der transienten FEM-Simulation von akustischen Sender-Empfänger-Anordnungen. In: Tag,-bd. Mikrosystemtechnik-Kongr., Dresden (2007)

W., Plieth; S., Richter; M., Plötner; W.-J., Fischer; K., Zelenetskaya; X.-D., Dang; E., Jaehne; H.-J., Adler: Organic Field Effect Transistors: Organized structures of thiophene oligo¬mers and polymers on alumina films. In: Proc. Int. Conf. Electrified Interfaces, Sahoro (J) als CD (2007)

Novodvorsky, O.A.; Panchenko, V.Ya.; Sokolov, V.I.; Kharmova, O.D.; Gorbatenko, L.S.; Cherebilo, Ye.A.; Wenzel, C.; Bartha, J.W.; Hiemann, H.; Bublik, V.T.; Chtcherbatchev, K.D.: Structural characteristics and photoluminescence spectra of ZnO films produced by pulsed laser deposition. In: ICONO/LAT-2007, Minsk (BY) ohne Abdruck (2007)

Novodvorsky, O.A.; Kharmova, O.D.; Panchenko, V.Ya.; Gorbatenko, L.S.; Cherebilo, Ye.A.; Batishev, G.A.; Wenzel, C.; Bartha, J.W.; Bublik, V.T.; Hiemann , E.: Laser Plasma Deposition of thin ZnO films, doped by nitrogen. In: Int. Conf. Micro- & Nano-Electr., Zvenigorod (RU) ohne Abdruck (2007)

Hossbach, C.; Albert, M.; Teichert, S.; Hintze, B.; Mühle, U.; Wilde, L.; Bartha, J.W.: Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of High Quality Tantalum Carbonitride Thin Films. In: Proc. AVS ALD Conf., San Diego (US) ohne Abdruck (2007)

Albert, M.: Atomlagenabscheidung (ALD) mit der Clusteranlage FHR – ALD 300. In: Silicon Saxony Tag, Dresden ohne Abdruck (2007)

M., Stangl; J., Acker; V. , Hoffmann; V. , Wetzig; U., Künzelmann; J.W., Bartha: Application of the Copper Damascene Process for the Preparation of Electromigration Test Structures. In: Int. Conf. Planarization/CMP Technology (ICPT) (2007), S. 331–336

D., Schmidt; S., Strehle; M., Albert; S., Teichert; B., Hintze; W., Hentsch; J.W., Bartha: Ternary Ta(Al)N ALD Films using Tantalum Precursors and TMA as additional Reducing Agent. In: Agent. Proc. AVS ALD Conf., San Diego (US) avail, online (2007)

Diese Informationen werden vom Vorgängersystem FIS bereitgestellt.

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Philipp Wenskus
Letzte Änderung: 07.02.2018