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Killge, S.; Bartussek, I.; Junige, M.; Neumann, V.; Wenzel, C.; Böttcher, M.; Albert, M.; Wolf, M.J.; Bartha, J.W.: 3D system integration on 300 mm wafer level : high-aspect-ratio TSVs with ruthenium seed layer by thermal ald and subsequent copper electroplating. In: Materials for Advanced Metallization : March 26-29, 2017, Dresden, Germany. Dresden, 2017 (2017)

Wenger, C.; Chavarin, C.A.; Strobel, C.; Junige, M.; Kitzmann, J.; Lukosius, M.; Lupina, G.; Albert, M.; Bartha, J.W.: Towards Graphene-based heterojunction devices for microelectronic applications. In: Graphene 2017 : March 28-31, 2017, Barcelona, Spain. Barcelona, 2017 (2017)

Junige, M.; Kitzmann, J.; Chavarin, C.A.; Geidel, M.; Reif, J.; Albert, M.; Lupina, G.; Wenger, C.; Bartha, J.W.: In-situ real-time and in-vacuo study of the temperature impact on the Al2O3 ALD nucleation upon pristine monolayer graphene. In: AVS 17th International Conference on Atomic Layer Deposition : July 15 – 18, 2017, Denver, Colorado, USA. Denver, 2017 (2017)

Junige, M.; Kitzmann, J.; Geidel, M.; Lupina, G.; Albert, M.; Wenger, C.; Bartha, J.W.: Al2O3 ALD on pristine graphene. In: DPG-Frühjahrstagung der Sektion Kondensierte Materie. Dresden, 2017 Vortrag (2017)

Junige, M.; Löffler, M.; Geidel, M.; Albert, M.; Bartha, J.W.; Zschech, E.; Rellinghaus, B.; van Dorp, W.F.: Area-selective atomic layer deposition of Ru on electron-beam-written Pt(C) patterns versus SiO2 substratum. In: Nanotechnology 28 (2017), Nr. 39 (2017), S. 395301

Franke, M.; Slowik, I.; Mehner, P. J.; Paschew, G.; Voigt, A.; Fröb, H.; Leo, K.; Richter, A.: Electrically Tunable Dye Emission via Microcavity Integrated PDMS Gel Actuator. In: ACS Appl. Mater. Interfaces, 2017, 9 (34) (2017), S. 29193–29202

Franke, M.; Leubner, S.; Dubavik, A.; George, A.; Savchenko, T.; Pini, C.; Frank, P.; Melnikau, D.; Rakovich, Y.; Gaponik, N.; Eychmüller, A.; Richter, A.: Immobilization of pH-sensitive CdTe Quantum Dots in a Poly(acrylate) Hydrogel for Microfluidic Applications. In: Nanoscale Research Letters (2017)

Henke, T.; Knaut, M.; Geidel, M.; Winkler, F.; Albert, M.; Bartha, J.W.: Atomic layer deposition of tantalum oxide thin films using the precursor tert-butylimido-tris-ethylmethylamido-tantalum and water: Process characteristics and film properties. In: Thin Solid Films 627 (2017), S. 94–105

Patommel, J.; Klare, S.; Hoppe, R.; Ritter, S.; Samberg, D.; Wittwer, F.; Jahn, A.; Richter, K.; Wenzel, C.; Bartha, J.W.; Scholz, M.; Seiboth, F.; Boesenberg, U.; Falkenberg, G.; Schroer, C.G.: Focusing hard x rays beyond the critical angle of total reflection by adiabatically focusing lenses. In: Appl. Phys. Lett. 110, 101103 (2017)

Schwille, M.; Barth, J.; Schössler, T.; Schön, F.; Bartha, J.W.; Oettel, M.: Simulation approach of Atomic Layer Deposition in large 3D structures. In: Modelling and Simulation in Materials Science and Engineering (2017)

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Martin Knaut
Letzte Änderung: 29.05.2019