Veröffentlichungen Halbleitertechnik 2007
Ternary Ta(Al)N ALD Films using Tantalum Precursors and TMA as additional Reducing Agent
Typ der Veröffentlichung
Konferenzbeitrag
Veröffentlicht in
Agent. Proc. AVS ALD Conf., San Diego (US)
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2007
Band/Vol.
avail, online
Referiert
Nein
Url/Urn/Doi
http://
Berichtsjahr
2007
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