Publikationen
690 Einträge
2026
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Technology Roadmap of Bioinspired Computing Hardware, 17 März 2026, in: ACS nano. 20, 10, S. 8102-8163, 62 S.Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Übersichtsartikel (Review)
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Formation of a passivation layer via oxygen plasma oxidation for GaN-on-GaN regrowth, 12 März 2026, in: Thin solid films. 839, 5 S., 140910Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
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Junctionless Silicon Nanowire Transistors without the Use of Impurity Doping, 10 März 2026, in: ACS nano. 20, 9, S. 7508-7517, 10 S.Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
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Does a Morphotropic Phase Boundary Exist in ZrxHf1-xO2-Based Thin Films?, 5 März 2026, in: Advanced functional materials. 36, 19, 12 S., e22802Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
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Reversible and Controllable Transition Between Filamentary and Interfacial Resistive Switching in HfO2-Based Memristors, 18 Feb. 2026, in: Advanced electronic materials. 12, 4, e00644Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
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Exfoliated-MoS2 Gradual Resistive Switching Devices as Artificial Synapses, 15 Feb. 2026, in: Advanced electronic materials. 11 S., e00691Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
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Nitride Ferroelectric Domain Wall Memory for Next-Generation Computing, 4 Feb. 2026, in: Advanced electronic materials. 12, 3, e00616Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
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Achieving a Dielectric Constant of 60 in ZrxHf1-xO2: A Candidate for DRAM?, 2026, 2026 IEEE International Memory Workshop, IMW 2026 - Proceedings. Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE), 4 S.Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Buch/Konferenzbericht/Sammelband/Gutachten > Beitrag in Konferenzband
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A Low-Power 2-bit Full Adder realized with Three-Independent-Gate Reconfigurable FETs, 2026, ISCAS 2026 - 2026 IEEE International Symposium on Circuits and Systems. Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE), S. 2788-2792, 5 S.Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Buch/Konferenzbericht/Sammelband/Gutachten > Beitrag in Konferenzband
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Impact of ALD Oxidant and Deposition Temperature on Electrical Characteristics of Al2O3/SiO2/SiC MOS-Capacitors, 2026, Interface, Dielectrics and Ohmic Contact in SiC Power Devices. Trans Tech Publications Ltd, S. 21-28, 8 S.Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Buch/Konferenzbericht/Sammelband/Gutachten > Beitrag in Buch/Sammelband/Gutachten
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