Publikationen
668 Einträge
2020
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Material investigations for improving stability of Au free Ta/Al-based ohmic contacts annealed at low temperature for AlGaN/GaN heterostructures, Juli 2020, in: Semiconductor science and technology. 35, 7, 075011Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
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Quantum and transport lifetimes in optically induced GaN/AlGaN 2DEGs grown on bulk GaN, Juli 2020, in: Journal of vacuum science & technology : JVST ; B, Nanotechnology & microelectronics : materials, processing, measurement, & phenomena. 38, 4, 042203Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
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Top-Down Fabricated Reconfigurable FET With Two Symmetric and High-Current On-States, Juli 2020, in: IEEE electron device letters. 41, 7, S. 1110 - 1113, 4 S.Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
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Depolarization as Driving Force in Antiferroelectric Hafnia and Ferroelectric Wake-Up, 23 Juni 2020, in: ACS applied electronic materials. 2, 6, S. 1583-1595, 13 S.Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
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Hafnium oxide as an enabler for competitive ferroelectric devices, Juni 2020, S. 1-2, 2 S.Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag zu Konferenzen > Paper
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Nanosecond Laser Anneal (NLA) for Si-implanted HfO2 Ferroelectric Memories Integrated in Back-End of Line (BEOL), Juni 2020, 2020 IEEE Symposium on VLSI Technology. Honolulu: Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE), 9265061Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Buch/Konferenzbericht/Sammelband/Gutachten > Beitrag in Konferenzband
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Size effect of electronic properties in highly arsenic-doped silicon nanowires, Juni 2020, in: Solid-state electronics. 168, 107724Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
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SoC compatible 1 T1 C FeRAM memory array based on ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2, Juni 2020, 2020 IEEE Symposium on VLSI Technology. Honolulu: Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE), 9265063Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Buch/Konferenzbericht/Sammelband/Gutachten > Beitrag in Konferenzband
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Towards scalable reconfigurable field effect transistor using flash lamp annealing, Juni 2020Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag zu Konferenzen > Paper
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Endurance and targeted programming behavior of HfO2-FeFETs, Mai 2020, 2020 IEEE International Memory Workshop (IMW). Dresden: Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE), 9108131Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Buch/Konferenzbericht/Sammelband/Gutachten > Beitrag in Konferenzband
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