Publikationen
675 Einträge
2020
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Top-Down Fabricated Reconfigurable FET With Two Symmetric and High-Current On-States, Juli 2020, in: IEEE electron device letters. 41, 7, S. 1110 - 1113, 4 S.Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
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Depolarization as Driving Force in Antiferroelectric Hafnia and Ferroelectric Wake-Up, 23 Juni 2020, in: ACS applied electronic materials. 2, 6, S. 1583-1595, 13 S.Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
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Hafnium oxide as an enabler for competitive ferroelectric devices, Juni 2020, S. 1-2, 2 S.Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag zu Konferenzen > Paper
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Size effect of electronic properties in highly arsenic-doped silicon nanowires, Juni 2020, in: Solid-state electronics. 168, 107724Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
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SoC compatible 1 T1 C FeRAM memory array based on ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2, Juni 2020, 2020 IEEE Symposium on VLSI Technology. Honolulu: Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE), 9265063Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Buch/Konferenzbericht/Sammelband/Gutachten > Beitrag in Konferenzband
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Towards scalable reconfigurable field effect transistor using flash lamp annealing, Juni 2020Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag zu Konferenzen > Paper
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Endurance and targeted programming behavior of HfO2-FeFETs, Mai 2020, 2020 IEEE International Memory Workshop (IMW). Dresden: Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE), 9108131Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Buch/Konferenzbericht/Sammelband/Gutachten > Beitrag in Konferenzband
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FeFET: A versatile CMOS compatible device with game-changing potential, Mai 2020, 2020 IEEE International Memory Workshop (IMW). Dresden: Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE), 9108150Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Buch/Konferenzbericht/Sammelband/Gutachten > Beitrag in Konferenzband
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Thickness Scaling of AFE-RAM ZrO2 Capacitors with High Cycling Endurance and Low Process Temperature, Mai 2020, 2020 IEEE International Memory Workshop, IMW 2020 - Proceedings. Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE), 9108146Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Buch/Konferenzbericht/Sammelband/Gutachten > Beitrag in Konferenzband
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Inherent Charge-Sharing-Free Dynamic Logic Gates Employing Transistors With Multiple Independent Inputs, 9 April 2020, in: IEEE journal of the Electron Devices Society. 8, S. 740-747, 8 S.Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
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