Publikationen
668 Einträge
2019
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Impact of BTI Stress on RF Small Signal Parameters of FDSOI MOSFETs, Okt. 2019, 2019 IEEE International Integrated Reliability Workshop (IIRW). Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE), Band 2019. 4 S.Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Buch/Konferenzbericht/Sammelband/Gutachten > Beitrag in Konferenzband
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Negative Capacitance for Electrostatic Supercapacitors, Okt. 2019, in: Advanced energy materials. 9, 40Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
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Novel Quantum Dot Based Memories with Many Days of Storage Time: Last Steps towards the Holy Grail?, Okt. 2019Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag zu Konferenzen > Paper
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Broad Phase Transition of Fluorite-Structured Ferroelectrics for Large Electrocaloric Effect, 1 Sept. 2019, in: Physica Status Solidi - Rapid Research Letters. 13, 9, 1900177Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
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Eliminating Charge Sharing in Clocked Logic Gates on the Device Level Employing Transistors with Multiple Independent Inputs, Sept. 2019, 49th European Solid-State Device Research Conference, ESSDERC 2019. Editions Frontieres, S. 134-137, 4 S., 8901730Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Buch/Konferenzbericht/Sammelband/Gutachten > Beitrag in Konferenzband
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Ultra-dense co-integration of FeFETs and CMOS logic enabling very-fine grained Logic-in-Memory, Sept. 2019, 49th European Solid-State Device Research Conference, ESSDERC 2019. Editions Frontieres, S. 118-121, 4 S., 8901735Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Buch/Konferenzbericht/Sammelband/Gutachten > Beitrag in Konferenzband
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Nanoscale resistive switching memory devices: a review, 30 Aug. 2019, in: Nanotechnology. 30, 352003Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
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Towards Oxide Electronics: a Roadmap, 15 Juli 2019, in: Applied Surface Science : a Journal Devoted to Applied Physics and Chemistry of Surfaces and Interfaces. 482, S. 1-93, 93 S.Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Übersichtsartikel (Review)
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Origin of Ferroelectric Phase in Undoped HfO2 Films Deposited by Sputtering, 7 Juni 2019, in: Advanced materials interfaces. 6, 11, 1900042Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
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Improvement of NbO x-based threshold switching devices by implementing multilayer stacks, 6 Juni 2019, in: Semiconductor science and technology. 34, 7, 075005Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
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