Publikationen
675 Einträge
2019
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Direct Correlation of Ferroelectric Properties and Memory Characteristics in Ferroelectric Tunnel Junctions, 2019, in: IEEE journal of the Electron Devices Society. 7, 1, S. 1175-1181Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
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Ferroelectric FETs With 20-nm-Thick HfO₂ Layer for Large Memory Window and High Performance, 2019, in: IEEE transactions on electron devices : ED. 66, 9, S. 3828-3833, 6 S.Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
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Ferroelectric Hf1-xZrxO2 Memories: Device Reliability and Depolarization Fields, 2019, 2019 19th Non-Volatile Memory Technology Symposium (NVMTS), Durham, NC, USA. S. 1-8Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Buch/Konferenzbericht/Sammelband/Gutachten > Beitrag in Konferenzband
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Next Generation Ferroelectric Memories enabled by Hafnium Oxide, 2019, 2018 IEEE INTERNATIONAL ELECTRON DEVICES MEETING (IEDM)Publikation: Beitrag in Buch/Konferenzbericht/Sammelband/Gutachten > Beitrag in Konferenzband
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Recent progress for obtaining the ferroelectric phase in hafnium oxide based films: Impact of oxygen and zirconium, 2019, in: Japanese journal of applied physics. 58, SL, SL0801Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
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Towards Reconfigurable Electronics: Silicidation of Top-Down Fabricated Silicon Nanowires, 2019, in: Applied Sciences. 9, 17, S. 3462, 1 S.Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
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Unveiling the double-well energy landscape in a ferroelectric layer, 2019, in: Nature. 565, S. 464–467Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
2018
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Green coloring of GaN single crystals introduced by Cr impurity, 24 Nov. 2018, in: Journal of luminescence. 207, S. 507-511, 5 S.Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
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Characterization of self-assembled monolayers for Cu-Cu bonding technology, 16 Okt. 2018, in: Microelectronic Engineering. 202, S. 19-24, 6 S.Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
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Ferroelectric tunnel junctions based on ferroelectric-dielectric Hf0.5Zr0.5.O2/A12O3 capacitor stacks, 8 Okt. 2018, 2018 48th European Solid-State Device Research Conference, ESSDERC 2018. Editions Frontieres, S. 142-145, 4 S., 8486882Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Buch/Konferenzbericht/Sammelband/Gutachten > Beitrag in Konferenzband
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