Publikationen

2018

• Reconfigurable NAND/NOR logic gates in 28 nm HKMG and 22 nm FD-SOI FeFET technologyBreyer, E., Mulaosmanovic, H., Mikolajick, T. & Slesazeck, S., 2018, Technical Digest - International Electron Devices Meeting, IEDMElektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Buch/Konferenzbericht/Sammelband/Gutachten > Beitrag in Konferenzband
• Reconfigurable Si Nanowire Nonvolatile TransistorsPark, S. J., Jeon, D., Piontek, S., Grube, M., Ocker, J., Sessi, V., Heinzig, A. & 4 weitere, 2018, in: Advanced electronic materials. 4, 1, 1700399Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
• Review and perspective on ferroelectric HfO₂-based thin films for memory applicationsPark, M., Lee, Y., Mikolajick, T., Schroeder, U. & Hwang, C., 2018, in: MRS communications. 8, S. 795–808, 14 S.Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
• SDVSRM - a new SSRM based technique featuring dynamically adjusted, scanner synchronized sample voltages for measurement of actively operated devicesDoering, S., Wachowiak, A., Roetz, H., Eckl, S. & Mikolajick, T., 2018, in: Ultramicroscopy. 193, S. 24-32Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
• Thermodynamic and Kinetic Origins of Ferroelectricity in Fluorite Structure OxidesPark, M., Lee, Y., Mikolajick, T., Schroeder, U. & Hwang, C., 2018, in: Advanced electronic materials. 5, 3, 1800522Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
• Towards Full-area Passivating Contacts for Silicon Surfaces based on Al₂O₃-TiO_x Double LayersTröger, D., Grube, M., Knaut, M., Reif, J., Bartha, J. & Mikolajick, T., 2018, 2018 IEEE 7th World Conference on Photovoltaic Energy Conversion (WCPEC) (A Joint Conference of 45th IEEE PVSC, 28th PVSEC & 34th EU PVSEC). S. 2176-2179Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Buch/Konferenzbericht/Sammelband/Gutachten > Beitrag in Konferenzband
• Understanding the formation of the metastable ferroelectric phase in hafnia–zirconia solid solution thin filmsPark, M. H., Lee, Y. H., Kim, H. J., Kim, Y. J., Moon, T., Kim, K. D., Hyun, S. D. & 3 weitere, 2018, in: Nanoscale. 10, 2, S. 716-725, 10 S.Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel

2017

• Insights into antiferroelectrics from first-order reversal curvesHoffmann, M., Schenk, T., Pešić, M., Schroeder, U. & Mikolajick, T., 30 Okt. 2017, in: Applied physics letters. 111, 18, 182902Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
• Si Doped Hafnium Oxide—A “Fragile” Ferroelectric SystemRichter, C., Schenk, T., Park, M. H., Tscharntke, F. A., Grimley, E. D., LeBeau, J. M., Zhou, C. & 4 weitere, 22 Okt. 2017, in: Advanced electronic materials. 3, 10, 1700131Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
• The impact of charge compensated and uncompensated strontium defects on the stabilization of the ferroelectric phase in HfO2Materlik, R., Künneth, C., Mikolajick, T. & Kersch, A., 21 Aug. 2017, in: Applied physics letters. 111, 082902Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel