Publikationen

2013

• A systematic and comparative study of binary metal catalysts for carbon nanotube fabrication using CVD and laser evaporationJedrzejewska, A., Bachmatiuk, A., Ibrahim, I., Šreková, H., Nganou, C., Schüchner, F., Borowiak-Palen, E. & 4 weitere, 1 Jan. 2013, in: Fullerenes Nanotubes and Carbon Nanostructures. 21, 4, S. 273-285, 13 S.Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
• Application of mueller matrix spectroscopic ellipsometry to determine line edge roughness on photomasksHeinrich, A., Dirnstorfer, I., Bischoff, J., Richter, U., Ketelsen, H., Meiner, K. & Mikolajick, T., 2013, 29th European Mask and Lithography Conference. 88860LElektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Buch/Konferenzbericht/Sammelband/Gutachten > Beitrag in Konferenzband
• Channel length dependent sensor response of Schottky-barrier FET pH sensorsPregl, S., Zorgiebel, F., Baraban, L., Cuniberti, G., Mikolajick, T., Richter, C. & Weber, W., 2013, SENSORS, 2013 IEEE. Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE)Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Buch/Konferenzbericht/Sammelband/Gutachten > Beitrag in Konferenzband
• Characterization of multilayer gate stacks by multi-phonon transient trap spectroscopyOcker, J., Slesazeck, S. & Mikolajick, T., 2013, 2013 IEEE International Semiconductor Conference Dresden - Grenoble: Technology, Design, Packaging, Simulation and Test, ISCDG 2013. 6656301Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Buch/Konferenzbericht/Sammelband/Gutachten > Beitrag in Konferenzband
• Downscaling ferroelectric field effect transistors by using ferroelectric Si-doped HfO2Martin, D., Yurchuk, E., Müller, S., Müller, J., Paul, J., Sundquist, J., Slesazeck, S. & 5 weitere, 2013, in: Solid-State Electronics. 88, S. 65-68, 4 S.Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
• Dually active silicon nanowire transistors and circuits with equal electron and hole transportHeinzig, A., Mikolajick, T., Trommer, J., Grimm, D. & Weber, W., 2013, in: Nano Letters. 13, 9, S. 4176–4181Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
• Ferroelectric hafnium oxide: A CMOS-compatible and highly scalable approach to future ferroelectric memoriesMuller, J., Boscke, T., Muller, S., Yurchuk, E., Polakowski, P., Paul, J., Martin, D. & 14 weitere, 2013, IEDMElektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Buch/Konferenzbericht/Sammelband/Gutachten > Beitrag in Konferenzband
• From MFM Capacitors Toward Ferroelectric Transistors: Endurance and Disturb Characteristics of HfO2-Based FeFET DevicesMueller, S., Mueller, J., Hoffmann, R., Yurchuk, E., Schloesser, T., Boschke, R., Paul, J. & 5 weitere, 2013, in: IEEE transactions on electron devices : ED. 60, 12, S. 4199-4205, 7 S.Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
• Hafnium oxide based CMOS compatible ferroelectric materialsSchroeder, U., Mueller, S., Mueller, J., Yurchuk, E., Martin, D., Adelmann, C., Schloesser, T. & 2 weitere, 2013, in: ECS Journal of Solid State Science and Technology. 2, 4, N69Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
• HEMT test structure technology for fast on-wafer characterization of epitaxial GaN-on-Si materialSchuster, M., Wachowiak, A., Szabo, N., Jahn, A., Merkel, U., Ruf, A., Mikolajick, T. & 4 weitere, 2013, 2013 IEEE International Semiconductor Conference Dresden - Grenoble: Technology, Design, Packaging, Simulation and Test, ISCDG 2013. 6656315Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Buch/Konferenzbericht/Sammelband/Gutachten > Beitrag in Konferenzband