Publikationen

2013

• Impact of layer thickness on the ferroelectric behaviour of silicon doped hafnium oxide thin filmsGraham, A. P., Knebel, S., Melde, T., Mikolajick, T., Muller, J., Schroder, U., Sundqvist, J. & 1 weitere, 2013, in: Thin solid films. 533, S. 88-92Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
• Improvement of Al2O3 Passivation by Ti-DopingBenner, F., Knaut, M., Jordan, P. M., Dirnstorfer, I., Ocker, J., Bartha, J. W. & Mikolajick, T., 2013, S. 1156-1161, 6 S.Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag zu Konferenzen > Paper
• Influence of frequency dependent time to breakdown on high-K/metal gate reliabilityKnebel, S., Kupke, S., Schroeder, U., Slesazeck, S., Mikolajick, T., Agaiby, R. & Trentzsch, M., 2013, in: IEEE transactions on electron devices : ED. 60, 7, S. 2368-2371, 4 S.Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
• Inline-characterization and step coverage optimization of deposited dielectrics in DRAM structuresKrupinski, M., Kasic, A., Hecht, T., Klude, M., Heitmann, J., Erben, E. & Mikolajick, T., 2013, in: IEEE transactions on semiconductor manufacturing. 26, 2, S. 253-259, 7 S.Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
• Key concepts behind forming-free resistive switching incorporated with rectifying transport propertiesShuai, Y., Ou, X., Luo, W., Mücklich, A., Bürger, D., Zhou, S., Wu, C. & 6 weitere, 2013, in: Scientific reports. 3, 2208Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
• Millisecond flash lamp annealing for LaLuO₃ and LaScO ₃ high-k dielectricsLehmann, J., Hübner, R., Borany, J. V., Skorupa, W., Mikolajick, T., Schäfer, A., Schubert, J. & 1 weitere, 2013, in: Microelectronic Engineering. 109, S. 381-384, 4 S.Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
• New color sensor concept based on single spectral tunable photodiodeWachowiak, A., Slesazeck, S., Jordan, P., Holz, J. & Mikolajick, T., 2013, ESSDERC 2013 - Proceedings of the 43rd European Solid-State Device Research Conference. IEEE Computer Society, Washington , S. 127-130, 4 S., 6818835Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Buch/Konferenzbericht/Sammelband/Gutachten > Beitrag in Konferenzband
• Performance investigation and optimization of Si:HfO₂ FeFETs on a 28 nm bulk technologyMueller, S., Yurchuk, E., Slesazeck, S., Mikolajick, T., Müller, J., Herrmann, T. & Zaka, A., 2013, S. 248-251, 4 S.Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag zu Konferenzen > Paper
• Reconfigurable nanowire electronics - Device principles and circuit prospectsWeber, W. M., Trommer, J., Martin, D., Grube, M., Heinzig, A. & Mikolajick, T., 2013, ESSDERC 2013 - Proceedings of the 43rd European Solid-State Device Research Conference. IEEE Computer Society, Washington , S. 246-251, 6 S., 6818865Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Buch/Konferenzbericht/Sammelband/Gutachten > Beitrag in Konferenzband
• Reliability Characteristics of Ferroelectric Si: HfO2 Thin Films for Memory ApplicationsMikolajick, T., Mueller, S., Muller, J. & Schroeder, U., 2013, in: IEEE transactions on device and materials reliability. 13, 1, S. 93 - 97, 5 S.Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel