Publikationen
675 Einträge
2012
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Filamentary resistive switching in amorphous and polycrystalline Nb2O5 thin films, 2012, in: Solid-state electronics. 72, S. 73-77Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
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HfO 2-based ferroelectric field-effect transistors with 260 nm channel length and long data retention, 2012, 2012 4th IEEE International Memory Workshop. Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE)Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Buch/Konferenzbericht/Sammelband/Gutachten > Beitrag in Konferenzband
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Incipient Ferroelectricity in Al-Doped HfO2 Thin Films, 2012, in: Advanced functional materials. 22, 11, S. 2412-2417, 6 S.Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
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Intrinsic MOSFET leakage of high-k peripheral DRAM devices: Measurement and simulation, 2012, Proceedings of Technical Program of 2012 VLSI Technology, System and Application. 6210165Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Buch/Konferenzbericht/Sammelband/Gutachten > Beitrag in Konferenzband
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Metal oxide memories based on thermochemical and valence change mechanisms, 2012, in: MRS bulletin. 37, S. 131–137Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
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Molecular beam deposited ZrO2 on GaN and Si/TiN: A comparison, 2012Publikation: Beitrag zu Konferenzen > Paper
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Non-volatile data storage in HfO2-based ferroelectric FETs, 2012, 2012 12th Annual Non-Volatile Memory Technology Symposium Proceedings, NVMTS 2012. S. 60-63, 4 S., 6632863Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Buch/Konferenzbericht/Sammelband/Gutachten > Beitrag in Konferenzband
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OFF-state induced threshold voltage relaxation after PBTI stress, 2012, 2012 IEEE International Integrated Reliability Workshop (IIRW). Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE), S. 95-98, 4 S., 6468928Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Buch/Konferenzbericht/Sammelband/Gutachten > Beitrag in Konferenzband
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Reliability of SrRuO3/SrTiO3/SrRuO3 Stacks for DRAM Applications, 2012, in: IEEE electron device letters. 33, 12, S. 1699 - 1701Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
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Silicon and germanium nanoclusters embedded in zirconium dioxide matrices, 2012, in: ECS Journal of Solid State Science and Technology. 1, 6, S. N135-N138Elektronische (Volltext-)VersionPublikation: Beitrag in Fachzeitschrift > Forschungsartikel
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