Abschlussarbei­ten - Master

41 bis 50 von 51 Einträgen

Wang, Qian: Optimierung der selektiven elektrochemischen Abscheidung von Kupfer mittels Mikrokontaktdruck (µCP). Dresden, Technische Universität, Master, 2014

Wang, Shuo: Elektrokinetische Untersuchungen zur elektrochemischen Kupferabscheidung auf Ruthenium-ALD-Schichten. Dresden, Technische Universität, Master, 2014

Olawumi, Teju Tunde: Ultra-low k dielectrics and plasma damage control for advanced technology nodes (10 nm and below). Dresden, Technische Universität, Master, 2014

Bodenstein, Elisabeth: Elektronenstrahl-induziertes Trockenätzen im Druckbereich <10−3 mbar. Dresden, Technische Universität, Master, 2014

Ge, Yang: Optimierung eingebetteter, in-situ Bor-dotierter, SiGe-Schichten für pMOSFET Anwendungen. Dresden, Technische Universität, Master, 2013

Schwiegel, Benjamin: Herstellung und Charakterisierung von Barrieren für Kupfer-Leitbahnen auf der Basis von Ta und dotiertem Kupfer. Dresden, Technische Universität, Master, 2013

Winkler, Felix: Entwicklung einer stabilen Prozesskette für MOS Transistoren hergestellt in der Diffusionstechnik. Dresden, Technische Universität, Master, 2013

Schulze, Frank Michael: Fabrication of Through Silicon Vias by DRIE of Silicon onto an Etch Stop Layer and Electrical Characterization of Insulation, Barrier and Seed Layer. Dresden, Technische Universität, Master, 2013

Shi, Hui: Aufbau eines Messplatzes zur frequenzabhängigen Charakterisierung von oFETs und Untersuchungen zum Einfluss von Skalierung und Grenzflächen. Dresden, Technische Universität, Master, 2013

Fischer, Dustin: Molukularlagenabscheidung von organisch-anorganischen Hybridschichten. Dresden, Technische Universität, Master, 2013

Diese Informationen werden vom Vorgängersystem FIS bereitgestellt.

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Martin Knaut
Letzte Änderung: 03.08.2016