Geräte
3D Bioprinter
3D DISCOVERY™ EVOLUTION (regenHU)
Unser 3D-Drucker bietet die Möglichkeit, eine Vielzahl von Materialien wie Silikonelastomere, Gele, Pasten, Suspensionen und leitfähige Tinten mit einer Auflösung von bis zu 60 µm zu drucken. Er besitzt 4 Druckköpfe, mit denen verschiedene Materialien gleichzeitig gedruckt werden können. Der Drucker enthält eine Vorrichtung mit der die gedruckten Materialien vernetzt und somit verhärted werden können (photo-crosslinking). Ein als Druckkopf installierter Plasmastift wird zur lokalen Plasmaaktivierung von Teilen oder der gesamten gedruckten Struktur verwendet. Der Drucker befindet sich in einem Biosafety-Cabinet, das die Möglichkeit bietet, in einer sterilen Umgebung zu arbeiten (Druckzellsuspensionen sind möglich).
https://www.regenhu.com/3d-bioprinters#3ddiscovery-evolution
Biotec 107
Mask Aligner
EVG®620 (EVG Group)
Der Mask Aligner EVG 620 enthält alle Werkzeuge, mit denen der gesamte Mikroherstellungsprozess von der Waferbeladung bis zur Belichtung gesteuert werden kann. Es ist möglich sowohl die Waferposition in Bezug auf die Maske (Fotolithografie) oder den Stempel (UV-NIL und u-CP) als auch die Belichtungsdosis des beschichteten Substrats durch die Maske einzustellen. Das System ist durch den Photolithographieprozess in der Lage, Strukturen mit Auflösung im Mikrometerbereich zu erzeugen, eine Ausrichtungsgenauigkeit unter 1 um zu haben und die UV-NIL- und µ-CP-Stempel mit einer UV-NIL-Auflösung von bis zu 50 nm zu erzeugen.
http://www.evgroup.com/en/products/lithography/photolithography/mask_aligners/evg620semiauto/
CRTD 3.118
UV NanoImprint Lithografie und Mikro-Kontakt-Druck
EVG®620 UV-NIL and µCP tools (EV Group)
Der EVG620 ermöglicht Prägevorgänge mit Hilfe eines Stempels auf Substraten von kleiner Größe bis zu einem Durchmesser von 150 mm. Zu den einstellbaren Parametern gehören neben der Kontaktkraft auch Freigabemechanismen für den Stempel. Das firmeneigene Spannvorrichtungsdesign der EV Group bietet eine gleichmäßige Kontaktkraft auch für großflächige Prägungen mit hoher Ausbeute und unterstützt sowohl weiche als auch harte Stempel.
Features
- Nanoimprint Lithografie und Mikro-Kontakt-Druck
- UV Belichtung
- Spezielle Tools für UV-NIL
- Einstellungsmöglichkeiten für weiche und harte Stempel
- Substrattypen: Si, Glass, Verbindungshalbleiter
http://www.evgroup.com/en/products/lithography/nanoimprint_systems/uv_nil/evg620_uv-nil/
CRTD 3.118
Thermischer Verdampfer
Nano 36 (Kurt J-Lesker)
Der thermische Verdampfer Nano 36 von Kurt J-Lesker ermöglicht die Beschichtung und Abscheidung von mehrschichtigen dünnen Metallfilmen auf der subnanometer Skala. Er ist ausgestattet mit: i) einer Vakuumkammer, in der Platz für einen einzelnen 8 "-Wafer oder mehrere kleinere Substrate ist; ii) drei Verdampfungsquellen für die Mehrschichtabscheidung; iii) einem Quarzkristallsensor, der in Verbindung mit einem Dünnschichtregler (FTC-) 2000) eine automatische Steuerung der Filmdicke gewährleistet. Darüber hinaus sorgen Blenden zwischen den Quellen als auch zwischen Substrat und Quelle, sowie die motorisierte Drehung des Probenhalters für eine gleichmäßige Abscheidung auf der gesamten Oberfläche des Substrats. Thermische Verdampfung in Kombination mit Fotolithografie und Lift-Off-Prozessen, ermöglicht die Herstellung von Mikroelektroden für die Entwicklung eines elektrochemischen Biosensors.
http://www.lesker.com/newweb/Vacuum_systems/deposition_systems_pvd_nano36.cfm?ref=tech
CRTD 3.130
Plasmasystem
Tucano (Gambetti)
Das Plasmasystem Gambetti-Tucano ist mit einer 6-Liter-Aluminiumkammer, einer Vakuumpumpe zum Evakuieren der Kammer und zwei Gasversorgern zur Steuerung des Gasflusses ausgestattet. Eine automatische Anpassung aller Prozessparameter (Vakuum, Gasfluss, Gasdruck, Leistung und Zeit) ist möglich. Das System ist mit einem MHz-Generator (13,56 MHz) mit einer maximalen Leistung von 200 W ausgestattet. Damit kann man sowohl die Reinigung als auch die Aktivierung der bestrahlten Oberfläche erreichen. Der Plasma-Reiniger kann verwendet werden, um Verunreinigungen von einer Oberfläche zu entfernen, wodurch die Nutzung gefährlicher Chemikalien vermieden wird. Desweiteren kann mit dem Plasmareiniger die Haftung zwischen zwei Oberflächen für die Herstellung von Mikrofluidikchips verbessert werden oder auch die Oberflächenspannung so verändert werden, dass sie hydrophob oder hydrophil ist, womit man zum Beispiel die Zellausbreitung oder -haftung verbessern kann.
http://www.plasmi.eu/tucano-medium-size-plasma-reactor
CRTD 3.118
Profilometer
DektakXT-A (Bruker)
Das Profilometer DektakXT-A von Bruker verwendet einen LVDT-Sensor (Linear Variable Differential Transformer), um die aufgebrachte Kraft in einem Bereich zwischen 0,03 und 15 mg zu steuern. Dieses System ermöglicht eine vertikale Entfernungsabtastung von bis zu 1 mm mit einer vertikalen Auflösung <0,5 nm und bietet eine hervorragende Auflösung für Rauheitsmessungen, Höhen- und Tiefencharakterisierung sowie Messungen in beengten Bereichen.
Das Profilometer kann die Oberflächentopographie verschiedener feststoffartiger Materialien (steif und weich / organisch und anorganisch) analysieren und mit Hilfe von Stitching 2D- und 3D-Karten der Oberflächenmorphologie mit einer maximalen Scanlänge von 200 mm erstellen.
CRTD 3.118
Spin Coater
WS-650Hzb-23NPP-UD-3 (Laurell)
Die Laurell WS-650Hzb-23NPP-UD-3-Spin-Coater bieten Platz für Wafer bis zu einer Größe von 150mm sowie für 5 "x 5" -Substrate. Beide sind mit drei automatischen Dispensern ausgestattet und verfügen über eine maximale Drehzahl von 12.000 rpm und eine Beschleunigung von bis zu 30.000 rpm/s. Die einstellbare Drehung des Substrats (im Uhrzeigersinn, gegen den Uhrzeigersinn, Puddle) in Kombination mit den drei automatischen Dispensern ermöglicht es, eine gleichmäßige Abscheidung von mehrschichtigen Dünnfilmen zu erzielen und eine Fotolackentwicklung durchzuführen. Diese Funktionen ermöglichen eine schnelle Optimierung eines Rezepts mit vollautomatischen Prozessen und hoher Reproduzierbarkeit.
http://www.laurell.com/spin-coater/150mm.php
CRTD 3.118
Heizplatten
EMS 1000-1 (Electronic Micro Systems Ltd.)
Die Heizplatte EMS 1000-1 (Electronic Micro Systems Ltd.) umfasst einen P.I.D. Temperaturregler mit Digitalanzeige und eine Aluminiumplatte, auf der Substrate mit einer maximalen Größe von 150 mm Platz finden. Die Heizplatte kann die Temperatur der Aluminiumplatte in einem Bereich zwischen Raumtemperatur und 200 ° C steuern und weicht dabei maximal um 1% über der gesamten Oberfläche ab. Es gibt die Möglichkeit, Rampen und Temperaturhaltezeiten zu programmieren.
http://www.electronicmicrosystems.co.uk/hotplates.htm
CRTD 3.118
Fluoreszenz Mikroskop
Axio Scope.A1 (Zeiss)
Das Mikroskop Axio Scope.A1 ist ausgestattet mit:
- Epiplan-Objektiv 5x (NA = 0,13), 10x (NA = 0,25), 20x (NA = 0,50), 50x (NA = 0,80)
- 5,0-Megapixel-Farb-CCD mit Softwareschnittstelle für die Bild- und Videoaufnahme
- Hellfeld, Dunkelfeld und Fluoreszenz
- Schnelle und stabile Beleuchtung durch microLED-Lichtquelle für reflektiertes und transmittiertes Licht
- Hg Fluoreszenzlichtquelle
- Gelbfilter für lichtempfindliche Materialien
- Fluoreszenzfilter (DAPI-FITC-TRITC)
CRTD 3.118
Schnelle Videomikroskopie
DeCellerator (Zellmechanik Dresden)
Der Decellerator kann Videos mit bis zu 10.000 Bildern pro Sekunde (fps) aufnehmen in Abhängigkeit von der Größe der ROI (region of interest). Dabei wird Bewegungsunschärfe durch Bildbelichtungszeiten im Mikrosekunden Bereich unterdrückt:
Komponenten:
- Invertiertes Mikroskop: Axio Observer.A1 (Zeiss)
- Hochgeschwindigkeitskamera: EoSens CL 1362 (Mikroton)
- Hochleistungs-Stroboskop-LED (AcCellerator L1 - Zellmechanik Dresden)
- Aufnahmesoftware (RecoTeem - Zellmechanik Dresden)
www.zellmechanik.com/Products/DeCellerator.html
CRTD 1.130
Kompakter Mikrofluidik-Controller
MFCS™-EX (Fluigent)
Kompakte Mikrofluidiksteuerung ausgestattet mit:
- 8 Kanälen: 2 Kanäle - 69 mbar, 4 Kanäle - 345 mbar, 2 Kanäle - 1000 mbar
- Einer Plattform für Volumenströme: 4 Durchflusseinheiten M und 2 Durchflusseinheiten S
- Schalttafel: 2-SwitchTM: bidirektionales Ventil
https://www.fluigent.com/product/mfcs-ex-extended-flow-control/
https://www.fluigent.com/product/frp-flow-rate-platform/
https://www.fluigent.com/product/ess-easy-switch-solutions/
CRTD 1.130
Niederdruck-Spritzenpumpe
neMESYS Low Pressure module V2 (CETONI GmbH)
NeMESYS Präzisionsspritzenpumpen eignen sich ideal zur Erzeugung extrem gleichmäßiger und pulsationsfreier Flüssigkeitsströme im Bereich von Millilitern und Nanolitern pro Sekunde sowie zur hochgenauen Dosierung kleinster Flüssigkeitsmengen. Das PID-gesteuerte Antriebssystem der Spritzenpumpe sorgt dafür, dass der Kolben reibungslos vorrückt, Stick-Slip-Effekte und Pulsation verhindert und ein hohes Maß an Genauigkeit in den erzeugten Flüssigkeitsströmen garantiert.
Das System ist ausgestattet mit:
- Zwei neMESYS Niederdruckmodulen V2, mit Ventil (14:1-Gang, ohne I/O Interface, Ventil: 0,6 mm ND, FFPMPEEK, max. 3 bar, Halter für Spritzen mit 6-30 mm Außendurchmesser)
- neMIX Spritzenrührer V2
www.cetoni.de/en/products/low-pressure-syringe-pump-nemesys-290n/
CRTD 1.130
Megasonic Entwickler und Reiniger (Megpie)
POLOS™ MCD 200-Megasonic (SPS-Europe B.V. (POLOS™))
Das Polos MCD 200-Megasonic-Paket kann automatisch Chemikalien im Resonator-Proben-Spalt freisetzen, kontrolliert die Geschwindigkeit und Richtung der Drehung sowie die Stromversorgung durch den Wandler mit einer direkten Rückmeldeschleife, um die abgegebenen Dosis an die Probe zu steuern. Der Saphirresonator ist mit allen Prozesschemikalien kompatibel und eignet sich damit für alle lösungsmittelunterstützten Prozesse wie Reinigen, Entwickeln, Lift-Off und Nassätzen. Das System eignet sich am besten für die Entwicklung eines Fotolacks mit einer Dicke von bis zu 1 mm, und verbessert die Effizienz und die Reproduzierbarkeit des Prozesses durch eine vollautomatische Steuerung der Prozessparameter.
Anwendbare Verfahren:
- Post-CMP, TSV, Post-Laserreinigung
- Pre-Bond-, Pre-Dep- und Maskenreinigung
- SU8 und Thick-Resist-Entwicklung
- Lift-Off, Resist-Stripping, Ätzungsunterstützung, Vorbeschichtungsprozesse
https://www.spincoating.com/order/megpie/53/
CRTD 3.118