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In-situ spectroscopic ellipsometry during the atomic layer deposition of ruthenium and ruthenium oxide
Typ der Veröffentlichung
Konferenzbeitrag
Veröffentlicht in
3rd NanoCharm Workshop on Non-Destructive Real Time Process Control. Berlin, 2010
Schlagwörter
-
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2010
Referiert
Nein
Berichtsjahr
2010
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