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Growth of the Initial Atomic Layers of Ta-N Films During Atomic Layer Deposition on Silicon-Based Substrates
Typ der Veröffentlichung
Zeitschriftenaufsatz
Veröffentlicht in
Chemical Vapor Deposition 17
Schlagwörter
-
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2011
Seiten
37-44
Referiert
Ja
Berichtsjahr
2011
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