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Flash-ALD - A Novel Approach for Atomic Layer Controlled Growth of Thin Films Induced by Flash Heating
Typ der Veröffentlichung
Konferenzbeitrag
Veröffentlicht in
Proceedings of AVS 11th International Conference on Atomic Layer Deposition, June 26 – 29, 2011, Cambridge, Massachusetts, USA
Schlagwörter
Atomic Layer Deposition, Flash Heating
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2011
Referiert
Nein
Open Access
Nein
Zugeordnete Forschungsschwerpunkte
- * Atomic Layer Deposition (ALD)
Berichtsjahr
2011
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