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In situ XPS Investigation of the Chemical Surface Composition during the ALD of ultra-thin Aluminum Oxide Films
Typ der Veröffentlichung
Konferenzbeitrag
Veröffentlicht in
IEEE 2011 Semiconductor Conference Dresden, September 27 to 28, 2011, Dresden
Schlagwörter
-
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2011
Referiert
Ja
Open Access
Nein
Url/Urn/Doi
DOI:10.1109/SCD.2011.6068753
Berichtsjahr
2011
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