Publications
Atomic layer deposition monitored and characterized by joint in situ real-time spectroscopic ellipsometry and direct surface analysis
Typ der Veröffentlichung
Konferenzbeitrag
Veröffentlicht in
AVS 59th Annual International Symposium and Exhibition : October 28 – November 02, 2012, Tampa, Florida, USA. Tampa, Florida, 2012
Schlagwörter
-
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2012
Band/Vol.
Vortrag
Referiert
Nein
Open Access
Nein
Zugeordnete Forschungsschwerpunkte
- * Atomic Layer Deposition (ALD)
Berichtsjahr
2012
Export
Categories
Journals | Conferencens | Books | Patents