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High-rate deposition of silicon thin film layers using linear plasma sources operated at very high excitation frequencies (80-140 MHz)
Typ der Veröffentlichung
Konferenzbeitrag
Veröffentlicht in
Proceedings of SPIE Optics + Photonics Conference, Thin Film Solar Technology IV, vol. 8470 (2012)
Schlagwörter
-
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2012
Referiert
Ja
Open Access
Nein
Url/Urn/Doi
Berichtsjahr
2012
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