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In-situ Growth Control für AlxTiyOz Films and Laminates
Typ der Veröffentlichung
Konferenzbeitrag
Veröffentlicht in
13th AVS conference on Atomic Layer Deposition, San Diego, CA, USA, 28.07.-31.07.2013
Schlagwörter
ALD, QCM, SE, XPS, in-situ, Al2O3, TiO2, film growth, process integration
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2013
Referiert
Nein
Open Access
Nein
Zugeordnete Forschungsschwerpunkte
- * Atomic Layer Deposition (ALD)
Berichtsjahr
2013
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