Publikationen der Professur für Halbleitertechnik
Atomic Layer Deposition of Al2O3 on NF3-pre-treated graphene
Typ der Veröffentlichung
Konferenzbeitrag
Veröffentlicht in
Ion M. Tiginyanu (Hrsg.): Nanotechnology VII : May 4-6, 2015, Barcelona, Spain. Barcelona, 2015 (Proceedings of SPIE, 9519)
Schlagwörter
-
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2015
Seiten
951915
Referiert
Ja
Open Access
Nein
Url/Urn/Doi
10.1117/12.2181242
Zugeordnete Forschungsschwerpunkte
- * Atomic Layer Deposition (ALD)
Berichtsjahr
2015
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Kategorien
Journal | Konferenzen | Bücher | Patente