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Experimental and simulation approach for process optimization of atomic layer deposited thin films in high aspect ratio 3D structures
Typ der Veröffentlichung
Zeitschriftenaufsatz
Veröffentlicht in
Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 35, 01B118
Schlagwörter
-
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2017
Referiert
Ja
Open Access
Nein
Url/Urn/Doi
10.1116/1.4971196
Berichtsjahr
2017
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