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Resolution and total blur: Correlation and focus dependencies in e-beam lithography
Typ der Veröffentlichung
Zeitschriftenaufsatz
Veröffentlicht in
J. Vac. Sci. Technol.
Schlagwörter
e-beam lithography
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2009
Band/Vol.
B27
Heftnummer/Issue
6
Seiten
2722-2725
Referiert
Ja
Url/Urn/Doi
10.1116/1.3246365
Berichtsjahr
2009
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