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Area-selective atomic layer deposition of Ru on electron-beam-written Pt(C) patterns versus SiO2 substratum
Typ der Veröffentlichung
Zeitschriftenaufsatz
Veröffentlicht in
Nanotechnology 28 (2017), Nr. 39
Schlagwörter
-
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2017
Vermerk
keiner
Seiten
395301
Referiert
Ja
Open Access
Nein
Url/Urn/Doi
Berichtsjahr
2017
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