Veröffentlichte Journal-Beiträge
Top Injection Reactor Tool with in situ Spectroscopic Ellipsometry for growth and characterization of ALD thin films
Typ der Veröffentlichung
Zeitschriftenaufsatz
Veröffentlicht in
Microelectronic Engineering
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2008
Band/Vol.
85
Seiten
527-533
Referiert
Nein
Url/Urn/Doi
http://
Berichtsjahr
2007
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