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Positve etch profiles in silicon with improved pattern quality
Typ der Veröffentlichung
Zeitschriftenaufsatz
Veröffentlicht in
Plasma Process. Polym.
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2007
Band/Vol.
4
Referiert
Nein
Url/Urn/Doi
http://
Berichtsjahr
2007
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