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Properties of Plasma-Enhanced Atomic Layer Depostion-Grown Tantalum Carbonitrade Thin Films
Typ der Veröffentlichung
Zeitschriftenaufsatz
Veröffentlicht in
J. Electrochem. Soc. 156
Schlagwörter
ALD
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2009
Heftnummer/Issue
H852, DOI: 10.1149/1.3205457
Referiert
Ja
Berichtsjahr
2009
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