Veröffentlichte Journal-Beiträge
In-situ analysis on the initial growth of ultra-thin ruthenium films with atomic layer deposition
Typ der Veröffentlichung
Zeitschriftenaufsatz
Veröffentlicht in
Microelectronic Engineering
Schlagwörter
In-situ XPS, In-vacuo XPS, In-situ AFM, In-vacuo AFM, Initial growth, Initial reaction mechanism, Thermal ALD of Ru, ECPR
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2012
Referiert
Ja
Open Access
Nein
Url/Urn/Doi
Berichtsjahr
2012
Export