Veröffentlichte Journal-Beiträge
Evaluation of direct patternable inorganic spin-on hard mask materials using electron beam lithography
Typ der Veröffentlichung
Zeitschriftenaufsatz
Veröffentlicht in
Microelectronic engineering 98
Schlagwörter
Inorganic resist, E-beam direct write, Direct patterned spin on hard mask, High resolution, 22 nm SRAM
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2012
Band/Vol.
98
Seiten
226-229
Referiert
Ja
Open Access
Nein
ISSN
0167-9317
Url/Urn/Doi
Berichtsjahr
2012
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