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Pattern transfer from the e-beam resist, over the nanoimprint resist and to the final silicon substrate
Typ der Veröffentlichung
Zeitschriftenaufsatz
Veröffentlicht in
Proc. SPIE 8328, Advanced Etch Technology for Nanopatterning, 83280S (17 March 2012)
Schlagwörter
Pattern transfer, RIE, smooth tapered sidewall, nanoimprint lithography
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2012
Referiert
Ja
Open Access
Nein
Url/Urn/Doi
Berichtsjahr
2012
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