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Plasma-enhanced chemical vapor deposition of amorphous Si on graphene
Typ der Veröffentlichung
Zeitschriftenaufsatz
Veröffentlicht in
Applied Physics Letters 108, 193105 (2016)
Schlagwörter
-
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2016
Referiert
Ja
Open Access
Nein
Url/Urn/Doi
10.1063/1.4948978
Berichtsjahr
2016
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