Veröffentlichte Konferenzbeiträge
Characterisation of Surface Processes during Oxide CMP by in situ FTIR Spectroscopy with Microstructured Reflection Elements at Silicon Wafers
Typ der Veröffentlichung
Konferenzbeitrag
Veröffentlicht in
Advanced Interconnects and Chemical Mechanical Planarization for Micro- and Nanoelectronics, MRS Spring Meeting 2010, San Francisco, CA, 5. - 7. April 2010
Schlagwörter
-
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2010
Band/Vol.
Materials Research Society - Symposium Proceedings, 1249
Seiten
135-140
Referiert
Ja
Berichtsjahr
2010
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